Pilotní linku pro výrobu čipů 7nanometrovou technologii hodlá ještě v letošním roce vybudovat a spustit společnost Intel. Přechod na ni může potenciálně udržet platnost Moorova zákona. Masová produkce 7nanometrových čipů se ale rozeběhne nejdříve za dva roku. V současnosti Intel s novou generací procesorů Cannonlake přechází na 10nanometrový výrobní proces.
Výrobní technologie polovodičů směřují ke stále menším rozměrům. Hodnota v nanometrech udává typickou poloviční vzdálenost mezi identickými strukturami čipu. Společnost Intel aktuálně využívá 14nanometrový proces, přičemž do konce roku přejde část jejích linek na 10nanometrový. I tak ale americká firma musela zvolnit tempo inovací výrobních postupů.
14nanometrový proces využila již pro tří generace procesorů – Broadwell, Skalyke a Kaby Lake. Dříve šlo jen o dvě a inovace procesu přicházela každé dva roky. Teoreticky dvouletý cyklus s přechodem na 7nanometrový proces opět nastaví. Současně manažeři Intelu nově přistupují k výkladu Moorova zákona. Jeho platnost interpretují v ekonomické rovině jako náklady na jeden tranzistor, nikoli jako násobení jejich celkového počtu v čipech za časové období.
Výroba 7nanometrových čipů si vyžádá nové materiály, které se v procesorech zatím neobjevovaly. Patří k nim například nitrid galia, jenž je od 90. let využíván v optoelektronice. Intel chce rovněž nasadit technologii EUV – Extreme Ultraviolet. Její praktická implementace byla již několikrát odložena. Pilotní či testovací výrobní linka má nové materiály a technologie otestovat pro velkoobjemovou výrobu.
Na sedmimilimetrovou výrobní technologii se připravují i konkurenti Intelu. Již na příští rok ohlásila jejich masovou výrobu firma Globalfoundries. Ta úzce spolupracuje se společností IBM, která první 7nm čipy vyrobila již vloni. Aktuálně však většina konkurentů rovně přechází na 10nanometrový proces.
